2dsemiconductors kish-graphite說(shuō)明書(shū)

基什石墨

Kish 石墨已在實(shí)驗(yàn)室使用熔融鐵碳化物冷卻工藝合成，以實(shí)現(xiàn)研究級(jí) Kish 石墨材料。通常 Kish 石墨是不銹鋼工藝的天然副產(chǎn)品，通常從冷卻的鐵表面收集小石墨片。這個(gè)過(guò)程的目的不是生產(chǎn)石墨，而是專(zhuān)注于生產(chǎn)含碳雜質(zhì)的鐵。因此，基什石墨的純度通常為 75%。 

我們開(kāi)發(fā)了鐵箔冷卻工藝，通過(guò)半導(dǎo)體級(jí)甲烷和乙烷混合物將碳溶解到厚鐵箔中并仔細(xì)冷卻以產(chǎn)生高質(zhì)量的 kish 石墨片。這些晶體的尺寸從毫米到 5-6 毫米不等，具有高純度（99.99% 或更高）和結(jié)晶度（的 vdW 結(jié)構(gòu)，與 HOPG 相比易于剝落）。 

實(shí)驗(yàn)室生長(zhǎng)的 Kish 石墨的典型特征